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做汽模什么最重要?

时间:2012-12-20 19:44来源:网络整理 作者:采集侠 点击:
用于制备光纤预制棒的方法主要采用以下四种方法:改进化学汽相沉积法(MCVD),外部汽相沉积法(OVD),汽相轴向沉积法(VAD)和等离子体化学汽相沉积法(PCVD)
  OVD法又为“管外汽相氧化法”或“粉尘法”,其质料在氢氧焰中水解天生SiO2微粉,然后经喷灯喷出,沉积在由石英、石墨或氧化铝原料制成的“母棒”外外貌,颠末多次沉积,去掉母棒,再将中空的预制律在高温下脱水,烧结成透明的实心玻璃棒,即为光纤预制棒。该法的利益是沉积速率快,得当批量出产,该法要说情形洁净,严酷脱水,可以制得0.16dB/km(1.55μm)的单模光纤,险些靠近石英光纤在1.55μm窗口的理论极限消费0.15dB/km。


VAD法是由日本开拓出来的,其事变道理与OVD沟通,差异之处在于它不是在母棒的外外貌沉积,而是在其端部(轴向)沉积。VAD的重要特点是可以持续出产,得当制造大型预制棒,从而可以拉制较长的持续光纤。并且,该法制备的多模光纤不会形成中心部位折射率凹陷或空眼,因此其光纤成品的带宽比MCVD法高一些,其单模光纤消费今朝到达0.22-0.4dB/km。今朝,日本如故把握着VAD的最先辈的焦点技能,所制得的光纤预制棒OH-含量很是低,在1385nm四面的消费小于0.46dB/km。

用于制备光纤预制棒的要领首要回收以下四种要领:改造化学汽相沉积法(MCVD),外部汽相沉积法(OVD),汽相轴向沉积法(VAD)和等离子体化学汽相沉积法(PCVD)。


1969年Jone和Hao回收SiCl4气相氧化法制成的光纤的消费低至10dB/km,并且掺杂剂都是回收纯的TiO2、GeO2、B2O3及P2O5,这是MCVD法的原型,其后成长成为此刻的MCVD所回收的SiCl4、GeCl4等液态的原原料。质料在高温下产生氧化回响天生SiO2、B2O3、GeO2、P2O5微粉,沉积在石英回响管的内壁上。在沉积进程中必要慎密地节制掺杂剂的流量,从而得到所计划的折射率漫衍。回收MCVD法制备的B/Ge共掺杂光纤作为光纤的内包层,可以或许克制包层中的模式耦合,大大低落光纤的传输消费。MCVD法是今朝制备高质量石英光纤较量不变靠得住的要领,该法制备的单模光纤消费可到达0.2-0.3dB/km,并且具有很好的一再性。
另外,在光纤制造进程中应采纳法子从几许尺寸和光学上严酷节制非圆度,优化折射率差,并回收三包层布局,从而镌汰偏振模色散(PMD)。其它,Shigeki Sakaguchi等研究了光纤中的瑞利散射消费与Tf的相关,尝试证实对光纤举办热处理赏罚可以低落微观不匀称性,镌汰瑞利散射消费。
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PCVD法是由菲利普研究尝试室提出的,于1978年应用于批量出产。它与MCVD的事变道理基内情同,只是不消氢氧焰举办管外加热,而是改用微波腔体发生的等离子体加热。 PCVD工艺的沉积温度低于MCVD工艺的沉积温度,因此回响管不易变形;因为气体电离不受回响管热容量的限定,以是微波加热腔体可以沿着回响管轴向作快速来去移动,今朝的移动速率在8m/min,这应承在管内沉积数千个薄层,从而使每层的沉积厚度减小,因此折射率漫衍的节制更为准确,可以得到更宽的带宽。并且,PCVD的沉积服从高,沉积速率快,有利于消除SiO2层沉积进程中的微观不匀称性,从而大大低落光纤中散射造成的本征消费,得当制备伟大折射率剖面的光纤,可以批量出产,有利于低落本钱。今朝,荷兰的等离子光纤公司占有天下领先程度。
聚合物光纤的制备要领之一就是预制棒拉纤法,制备聚合物光纤预制棒的要领凡是有:光共聚法、两步共聚法和界面凝胶法,个中界面凝胶法制备预制棒的技能最为成熟。操作差异折射率的单体的扩散速率差异,反就时的差异单体的竞聚率差异以及自动加快凝胶效应,使其折射率形成梯度,这样制造出的渐变折射率型的光纤预制棒具有折射率漫衍可控,并且漫衍匀称的利益,是今朝研究的热门。


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